地球温暖化にどのような化学反応が介在しますか？

いわゆる地球温暖化に関わる化学反応はほとんどなく、例として有名な温室効果を挙げることができます。.

地球温暖化は、一部の人々からは疑問視されていますが、今日地球が経験している多くの大気や気候の変化の原因であると考えられている現象です。.

「気温を下げよう：なぜもっと暖かい4℃の惑星を避けるべきである」と題された世界銀行の報告では、地球の温度の上昇は同時に生物の健康と生活を脅かすと指摘されていますそれは自然災害がより頻繁に発生することを可能にします.

確かに、今日我々は極端な気象現象の影響を受けていることが証明されています。.

温暖化の化学的および物理的説明は何ですか?

太陽は、大気と衝突すると熱光子と呼ばれる粒子に変換される熱波のおかげで地球を加熱します。.

一緒にグループ化されると、熱光子は温度を内包する一種の超粒子を形成します。.

実際には、体の温度はそれが含む熱電子の数に依存し、熱電子は通常CO2分子への熱光子の侵入によって地球の大気中で形成されます.

繰り返しますが、ある種のガスの存在は地球の気温の上昇に影響を与える反応を促進します.

赤外線の範囲内で放射線を吸収および放出し、温室効果の決定要因となるガスはありますか.

量的に見てこの種のガスの排出量が最も多い国は中国で、1人当たり7.2トンのCO2です。これは欧州連合加盟国の排出量の合計と同程度です。.

地球の大気中に存在するこのタイプの主なガスは：

二酸化炭素 （CO2）：分子が2つの酸素原子と1つの炭素で構成されているガスです。その化学式はCO2です。それは大気中に自然に存在し、バイオマスや海洋.

適切な濃度で、それは生物地球化学的サイクルのバランスに参加して、地球上で生命を可能にするレベルで温室効果を維持します.

それがこれらのレベルを超えると、それは生物にとって危険なレベルで温室効果を増強する.

化石燃料の燃焼と熱帯地域の森林伐採により、人間の活動は新たなCO2生産源を生み出しました.

このガスは大気中で起こり、そこからいわゆるフリーラジカルが放出される全ての化学反応に干渉する。赤外線を吸収する.

鉱山や天然鉱床の漏洩から明らかです。それはまた植物の嫌気性分解プロセスの終わりに見つけられることに加えて、それが天然ガスの９７％までを構成する理由であることに加えて、天然ガス分配プロセスにおいて放出されることができる。.

それはオゾン破壊の過程で介入する可燃性ガスです、そしてそれはCO2より25倍多く地球を加熱しますが、それは大気よりも220倍少なく存在します、それで温室効果への貢献はより低いです.

その有害な影響は通常それが健康への損傷を引き起こさないようにそれが最高10ppmであることが理想的である低大気で検出され.

言及する価値があるのは、これらの損害は、ガスへの曝露が1日8時間を超えるときに起こりやすいということ.

それは非常に高い温度での燃焼中に発生し、大気の低い地域でのその存在は産業汚染と山火事によるものです。.

酸性雨、スモッグの形成、オゾン破壊に介入.

オゾン：地球の表面への太陽放射の直接の通過を妨げる物質であり、その分子は3つの酸素原子で構成されています。それは成層圏に形成され、惑星の一種の保護盾になります.
クロロフルオロカーボンｓ：水素原子をフッ素および／または塩素原子で置換したときに得られる飽和炭化水素の誘導体である。.

それは、冷媒や消火剤のガス状成分の中に一般的に見られる、産業活動で生成される化学的に安定な生理的ガスです。.

有毒ではないが、それは成層圏オゾンの破壊に参加する.

温室は、壁や屋根がガラスなどの材料でできていて閉じ込められた空間であることから出発します。温室効果とは、日射が入ることを意味します。地球にしかしそれは出てこない.

それで、化学の観点から、この現象はガラスの分子（あるいは温室の壁と屋根が作られる材料）がそれらと衝突する熱イオンと活性化された複合体を形成することを意味します。.

活性化された錯体が破壊されたときに生成される熱電子は温室内に留まり、それらの量は規制されているように見えます。.

このように、内部エネルギーの量は温室の温度を調整して安定したままです.

ただし、例と同じ温室に二酸化炭素（CO2）を導入すると、圧力、温度、および空間の容積は一定に保たれ、床の温度は上昇します。.

より多くのCO2が導入されるほど、温室の床の暖房は大きくなります。地球規模では、大気中のCO2が多いほど、地球表面の温暖化は大きくなります。.

イギリスのリバプール、サウサンプトン、ブリストルの大学の研究者によると、海洋がほとんどの熱を吸収するときでさえ、これは真実です。このプロセスでは、規制上の役割と海洋でさえ減速.

つまり、加熱プロセスに関与する特定の分子（気体）があります。.

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